IBM plánuje výrobu čipů ve vodní lázni

IBM plánuje výrobu čipů ve vodní lázni

IBM totiž přišlo na způsob, jak vyrábět čipy 29,9 nanometrovou technologií v dnešních strojích. Technologie je zatím ve fázi experimentů.

Proces nazvaný immersion lithography (podvodní litografie?) spočívá v tom, že pláty silikonu jsou ponořeny do destilované vody. Laer pak osvítí masku a stín na plátu silikonu se stane trvalým, díky chemickým procesorům podobným při vytváření fotografií.

Důvodem ponoření silikonových plátů do vody je lepší přenos světla vodou, než vzduchem. To pak vede k ostřejšímu rozlišení a menším velikostem vzorků. Podovdní litografie by se měla začít používat komerčně v relativně blízké budoucnosti.

U systému IBM se používají dva laserové paprsky, kterým se vytváří světlé a tmavé interferenční vzory, které dovolují ostřejší hrany, než lze docílit pomocí běžné podvodní litografie.

IBM bude některé výsledky ukazovat na konferenci Microlithografie 2006, která bude tento týden v San Jose.

Poslat IBM plánuje výrobu čipů ve vodní lázni na facebook
Publikováno 30.11.2005
 

Změna barev | Autorská práva | Kontakt | Podpora | RSS kanály
© 2006 Gandalf, Design by Mirek
Creative Commons License